四丰电子知识问答
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真空镀膜和光学镀膜有什么区别

真空镀膜   主要利用辉光放电将氩气 (Ar) 离子撞击靶材 (target) 表面 , 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好 , 但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化 , 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加 , . . . 阅读全文

旋转靶材描述里面有一个100%life,有的靶材为60%life,这里的life是什么意思?

如果有可能的话,最可能的是靶材利用率,磁控旋转靶材一般在两头的位置,磁场形成回路,磁场最强,这样,磁控溅射聚集更多的自由电子,形成较强的自维持放电现象。相对应的,最容易溅射,溅射速率增强,所以溅射速度较其他地方的溅射速率快,靶材消耗就快,最后形成两端凹陷。 这样情况下,凹陷部分靶材最先用完,其他地方的靶材还没有用完,所以便有了靶材利用率一说。普通的平面靶材的利用率一般是旋转. . . 阅读全文

蒸发镀膜和溅射镀膜有什么区别?

1、真空镀膜 真空蒸发膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜。离子泥射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高谏运动轰击作为阴极的靶,使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面,形成所需要的薄膜。 2、溅射镀. . . 阅读全文

靶材哪些质量问题对大面积镀膜生产会产生影响?

1.靶材形状的影响 对于大面积镀膜常用的靶材按形状分包括平面靶和旋转靶,常用的平面靶包括铜靶、银靶、镍铬靶和石墨靶, 2.靶材相对密度和孔隙的影响 靶材的相对密度是靶材实际密度与理论密度的比值,单一成分靶材的理论密度为结晶密度,合金或混合物靶材的理论密度通过各组元的理论密度和其在合金或混合物中所占比例计算得出的。 3.靶材晶粒尺寸和结晶方向的影响 同一成分的靶材,晶粒尺寸较小的. . . 阅读全文

真空镀膜时为什么会出现产品掉膜的现象?

1、表面清洁度   产品表面洁净度不够,可以考虑离子源清洗时氩气放大、时间长点。   2、清洗过程中的问题   镀前清洗不到位,或更换了清洗液。 3、工艺的问题   工艺参数是否有变动,在镀膜时间和电流上做适当调整。   4、靶材的问题   钛靶是否中毒,检查和更换。 5. . . 阅读全文

靶材的应用领域

在储存技术方面,高密度、大容量硬盘的发展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,CoF ~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的 T b F e C o合金靶材还在进一步发展,用它制造的磁光 盘具有存储容量大,寿命长,可反复无接触擦写的特 点。如今开发出来的磁光盘,具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 层复合膜结构, T bF eCo/AI结构的. . . 阅读全文

在一般的磁控溅射过程中,溅射靶材的温度会达到多高?且溅射腔室内部,靠近基片传输的位置,温度会有多高?

溅射靶材的温度取决于能量的高低,举例:-1气压,功率5KW,偏压0。靶材表面温度为200度左右,基片温度不会高于100度~如果上升到10Kw,靶材表面温度会接近400度,基片会达到150度左右,我说的基片距离靶材有10厘米左右~ 此时热量为热辐射传热,离靶材远的地方辐射相对小,温度就低一点~ . . . 阅读全文

磁控溅射设备,用什么靶材能镀出红色?

1 铜靶 氩气溅射 红铜本色 2 铜靶 氩气+氧气溅射 暗红色 3 铁靶(不锈钢靶) 氩气+氧气溅射 紫红色 4 铬靶 氩气+氧气 橘红色 随着你使用的气体比例不同,颜色可能略有差别,建议你慢慢的加氧气含量,就能摸出最适合你的那种红色了。 . . . 阅读全文

靶材的运用原理有什么?

靶材运用:荷能粒子(例如氩离子)轰击固体表面,引起表面各种粒子,如原子、分子或团束从该物体表面逸出的现象称“溅射”。在磁控溅射镀膜中,通常是应用氩气电离产生的正离子轰击固体(靶),溅出的中性原子沉积到基片(工件)上,形成膜层,磁控溅射镀膜具有“低温”和“快速”两大特点。 . . . 阅读全文